1. Prodot principal
La nastra de grafit de volta pureza l’è una bobina de grafit flessibil fatta de grafit espandibil de volta pureza al 99%, libera de legant e impurità corrusif. Mantegn l’eccellent condutività termich, la condutività eletrich e la volta resistenza a la temperadüra de la grafit a furma de blocch de volta pureza, anca se g’ha una flessibilità eceziunal, una resistenza a cumpresiun e una facilità de lavuraziun. Pœu culmà i büs in de la superfiss irregular, furmand interfacc de gestiun termich eficient e guarniziun hermetich afidabil.
2. Specifich tecnich
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Elementi di parametri |
Specifiche/Gamme tipiche |
Norm de prœuf |
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Composiziun chimich |
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Contenuto de carbonio (C) |
Magiur o istess al 99,0%~99,9% |
ASTM D5603 |
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Contenut de cenere |
Menu o istess a 1000 ppm~100 ppm |
- |
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Contenut de solfar (S) |
Menu o istess a 500 ppm |
- |
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Proprietà fisich |
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Spessore |
0,1 mm ~ 3,0 mm (personalizzabil) |
ASTM F152 |
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Densitaa |
1,0 ~ 1,3 g/cm3 (regulabil) |
ASTM F1315 |
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Proprietà termich |
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Temperadüra de servizi a luungh termin (en aria) |
-200 grad ~450 grad (en ambient ossidant) |
- |
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Temperadüra de servizi a luungh termin (inert/vœui) |
Fin a 3000 grad |
- |
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Condutività termich en plan- (direziun X-Y) |
80~150 W/(m·K) |
ASTM E1461 |
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Proprietà mecanich |
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Resistenza a la trazion |
Magiur o istess a 4,0 MPa |
ASTM D828 |
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Raport de cumpresiun |
15%~40% |
ASTM F36 |
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Tass de rimbalz |
Magiur o istess al 15% |
ASTM F36 |
3.Caratteristich e vantagg principal
Alta condutività termica e stabilità termica
G’ha un’eccellent condutività termich luungh la direziun del plan (fin a 150 W/(m·K) o püsee), cunsentend una difusiun de calor rapida e uniform per prevegnir el surriscaldament local.
Pœu funziunar en mod stabil per tant temp a -200 grad a 3000 grad en un ambient a gas inert o a vœui (ambient minga ossidant), cunt un cueficient de espansiun termich bas e una ecellent stabilità dimensiunal.
Ecellent flessibilità e cumpens
Trama morbida, facil da piegà e avvolger, e la pœu adatass perfettament a vari cürvi cumpless e a superfis minga uniform.
G’ha una bona resistenza a la cumpresiun, che pœu cumpensà i büs causà del espansiun termich, de la contraziun o di toleranz de lavuraziun sü la superfiss de cuntat, mantegnind una presiun de cuntat stabil a luungh termin.
Alta pureza e inerzia chimica
Un contenut de ceneri estremament bas (pœu vèss inferiur a 100ppm), liber de ion corrusif cuma clor e solfar, e causarà no corrusiun o inquinament a compunent eletronich sensibil (par esempi, apparecchiatur a semicondutur) o camber metallich.
Facil de lavurar e duperà
Pœu vèss facilment tajà e timbrad cun man o strüment se necessari.
De solet l’è dotà de suport adesif o pœu vèss duperà cun adesif a volta temperadüra, facilitand l’installaziun e mejiorand l’eficienza de la produziun.
Eccellente ermetica
Sotta una forza de cumpresiun sufisent, pœu furmar una barriera de sigillament eficas per prevegnir perdite de gas e liquid.
4. Aree tipich de aplicaziun
Forn a vœui e forn a volta-temperadüra: La nastra de grafit de volta pureza l’è duperada per la sigilladura dinamich o statich a volta temperadüra ai port del forn, ai fenester de osservaziun, ai pres di eletrodi, ecc.
Apparecchiatur de produziun di semicondutur: Duperà cuma materiai de sigillament e isolament de la flanga per CVD, PECVD, forn a difusiun e olter apparecchiatur.
Cellule a carburant: Duperà cuma guarniziun de sigillament a gas intra plach bipolar de grafit o plach bipolar de metal.
Dissipaziun del calor eletronich e eletrich: Incolà intra dispusitif de alimentaziun (par esempi, IGBT, CPU) e dissipatur de calor cuma un pad termich eficient.
Cressita fotovoltaica e cristallina: Duperà per la sigilladura e l’isolament del camp termich en forn de disegn de silicio monocristallin e en forn de lingott de silicio policristallin.
Ricerca aerospazial e scientifich: Aplicà per la sigilladura e la condutività termica en vari ambient estrem cuma vœui, volta pressiun e volta temperadüra.
or: Nastro de grafite de alta-purezza, Cina produttur de nastro de grafite de alta-pureza
